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纯水和纯水是实验室、医疗、电子工业等领域常用的两种水质标准，但它们的制备工艺、纯度指标和应用场景存在显著差异。理解这些差异对于正确选择和使用至关重要。
1. 定义与标准
纯水通常指经过初步净化处理、去除大部分杂质的水，其电导率一般在1-5 μS/cm（微西门子/厘米），电阻率约0.2-1 MΩ·cm（兆欧·厘米）。常见的纯水制备方法包括反渗透（RO）、离子交换和蒸馏等。根据中国《GB/T 6682-2008分析实验室用水规格》，纯水可分为三级，其中一级水的电导率需≤5 μS/cm（25℃），适用于常规化学分析和制备溶液。 
纯水则是纯度高的水，电导率接近理论限值0.055 μS/cm（18.3 MΩ·cm），总碳（TOC）含量5 ppb（十亿分之一），且微生物、颗粒物等指标严格。纯水的制备需结合反渗透、电去离子（EDI）、滤（UF）和紫外线氧化等多重技术，例如半导体行业使用的纯水甚至需满足ASTM D5127标准，确保硅、硼等痕量元素含量低。
2. 关键指标对比
离子含量：纯水仍含有微量钠、钙、氯离子等，而纯水的离子浓度可降至ppt（万亿分之一）级别。例如，电子级纯水要求钠离子≤0.1 ppb。
物与微生物：纯水需通过0.22 μm终端过滤和254 nm紫外，确保细菌总数＜1 CFU/mL，而纯水可能残留少量物或微生物。
溶解气体：纯水需脱气处理，减少CO₂等溶解气体对电阻率的影响，而纯水对此要求较低。
3. 制备工艺差异
纯水的典型流程为：预处理→反渗透→混床离子交换。反渗透膜可去除以上的离子，混床树脂进一步降低电导率。但纯水系统需增加以下环节：
电去离子（EDI）：通过电场驱动离子迁移，替代传统化学再生树脂，实现连续产水。 
滤（UF）：截留纳米级颗粒和胶体，例如在光伏硅片清洗中避免表面污染。
双波长紫外氧化：185 nm紫外线分解物，254 nm紫外线，确保TOC达标。
以半导体行业为例，纯水系统可能包含20余道工序，甚至需在无氧环境下操作，防止金属离子析出。
4. 应用场景区分
纯水：适用于制药配液、普通实验室试剂配制、锅炉等。例如，医院透析用水需符合YY 0572-2015标准，虽非纯水，但要求内毒素＜0.25 EU/mL。
纯水：主要用于集成电路芯片清洗、分析仪器（如HPLC、ICP-MS）、纳米材料合成等。
5. 储存与使用注意事项
纯水可短期储存于聚乙烯桶中，但纯水需实时制备并使用惰性材料管道输送（如PVDF），因接触空气后电阻率会下降。
选择纯水或纯水需综合考量实际需求与经济性。随着纳米技术和生物医药的发展，纯水标准仍在不断提升，例如欧盟近期将18.2 MΩ·cm列为3D打印生物墨水的基准要求。
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